4-tommers halvfornærmende SiC-wafere HPSI SiC-substrat Prime Production-kvalitet

4-tommers halvfornærmende SiC-skiver HPSI SiC-substrat Prime Produksjonsgrad Utvalgt bilde

Kort beskrivelse:

Den 4-tommers halvisolerte dobbeltsidige poleringsplaten i silisiumkarbid med høy renhet brukes hovedsakelig i 5G-kommunikasjon og andre felt, med fordelene ved å forbedre radiofrekvensområdet, gjenkjenning av ultralang avstand, anti-interferens, høyhastighets , stor kapasitet informasjonsoverføring og andre applikasjoner, og regnes som det ideelle substratet for å lage mikrobølgekraftenheter.

Send e-post til oss

Produkt detalj

Produktetiketter

Produkt spesifikasjon

Silisiumkarbid (SiC) er et sammensatt halvledermateriale sammensatt av elementene karbon og silisium, og er et av de ideelle materialene for å lage enheter med høy temperatur, høy frekvens, høy effekt og høy spenning.Sammenlignet med det tradisjonelle silisiummaterialet (Si), er den forbudte båndbredden til silisiumkarbid tre ganger større enn for silisium;den termiske ledningsevnen er 4-5 ganger den for silisium;nedbrytningsspenningen er 8-10 ganger den for silisium;og elektronmetningsdriftshastigheten er 2-3 ganger den for silisium, som oppfyller behovene til den moderne industrien for høyeffekt, høyspent og høyfrekvent, og den brukes hovedsakelig til å lage høyhastighets, høy- frekvens, høyeffekt og lysemitterende elektroniske komponenter, og dets nedstrøms applikasjonsområder inkluderer smart grid, nye energikjøretøyer, solcelle-vindkraft, 5G-kommunikasjon, etc. Innen kraftenheter har silisiumkarbiddioder og MOSFET-er begynt å bli kommersielt brukt.

Fordeler med SiC-skiver/SiC-substrat

Høy temperaturmotstand.Den forbudte båndbredden til silisiumkarbid er 2-3 ganger større enn for silisium, så det er mindre sannsynlig at elektroner hopper ved høye temperaturer og tåler høyere driftstemperaturer, og den termiske ledningsevnen til silisiumkarbid er 4-5 ganger den for silisium, noe som gjør det lettere å spre varme fra enheten og tillater en høyere begrensende driftstemperatur.Høytemperaturegenskapene kan øke effekttettheten betydelig, samtidig som kravene til varmeavledningssystemet reduseres, noe som gjør terminalen lettere og miniatyrisert.

Høy spenningsmotstand.Silisiumkarbidens nedbrytningsfeltstyrke er 10 ganger større enn silisium, noe som gjør at den tåler høyere spenninger, noe som gjør den mer egnet for høyspentenheter.

Høyfrekvent motstand.Silisiumkarbid har to ganger metningselektrondrifthastigheten til silisium, noe som resulterer i at enhetene i avslutningsprosessen ikke eksisterer i dagens dra-fenomen, kan effektivt forbedre enhetens byttefrekvens for å oppnå miniatyrisering av enheten.

Lavt energitap.Silisiumkarbid har en svært lav motstandskraft sammenlignet med silisiummaterialer, lavt ledningstap;samtidig reduserer den høye båndbredden til silisiumkarbid betydelig lekkasjestrømmen, strømtap;i tillegg eksisterer ikke silisiumkarbidenheter i nedleggelsesprosessen i dagens dragfenomen, lavt byttetap.