150 mm 6 tommer 0,7 mm 0,5 mm Sapphire Wafer Substrate Carrier C-Plane SSP/DSP

Kort beskrivelse:

Alt ovenfor er korrekte beskrivelser av safirkrystaller.Den utmerkede ytelsen til safirkrystall gjør den mye brukt i avanserte tekniske felt.Med den raske utviklingen av LED-industrien øker også etterspørselen etter safirkrystallmaterialer.

Send e-post til oss

Produkt detalj

Produktetiketter

applikasjoner

Bruksområder for 6-tommers safirwafere inkluderer:

1. LED-produksjon: safirskive kan brukes som underlag for LED-brikker, og dens hardhet og varmeledningsevne kan forbedre stabiliteten og levetiden til LED-brikker.

2. Laserproduksjon: Safirskive kan også brukes som substrat for laser, for å forbedre ytelsen til laser og forlenge levetiden.

3. Halvlederproduksjon: Safirskiver er mye brukt i produksjon av elektroniske og optoelektroniske enheter, inkludert optisk syntese, solceller, høyfrekvente elektroniske enheter, etc.

4. Andre bruksområder: Sapphire wafer kan også brukes til å produsere berøringsskjerm, optiske enheter, tynnfilmsolceller og andre høyteknologiske produkter.

Spesifikasjon

Materiale	Høy renhet enkrystall Al2O3, safir wafer.
Dimensjon	150 mm +/- 0,05 mm, 6 tommer
Tykkelse	1300 +/- 25 um
Orientering	C-plan (0001) av M (1-100)-plan 0,2 +/- 0,05 grader
Primær flat orientering	Et fly +/- 1 grad
Primær flat lengde	47,5 mm +/- 1 mm
Total tykkelsesvariasjon (TTV)	<20 um
Bue	<25 um
Warp	<25 um
Termisk ekspansjonskoeffisient	6,66 x 10-6 / °C parallelt med C-aksen, 5 x 10-6 / °C vinkelrett på C-aksen
Dielektrisk styrke	4,8 x 105 V/cm
Dielektrisk konstant	11,5 (1 MHz) langs C-aksen, 9,3 (1 MHz) vinkelrett på C-aksen
Dielektrisk tapstangent (også kjent som spredningsfaktor)	mindre enn 1 x 10-4
Termisk ledningsevne	40 W/(mK) ved 20 ℃
Polering	enkeltsidepolert (SSP) eller dobbeltsidepolert (DSP) Ra < 0,5 nm (av AFM).Baksiden av SSP wafer var finmalt til Ra = 0,8 - 1,2 um.
Overføring	88 % +/-1 % ved 460 nm