2 tommer 50,8 mm Sapphire Wafer C-Plane M-plane R-plane A-plane Tykkelse 350um 430um 500um

2 tommer 50,8 mm Sapphire Wafer C-Plane M-plane R-plane A-plane Tykkelse 350um 430um 500um Utvalgt bilde

Kort beskrivelse:

Safir er et materiale med en unik kombinasjon av fysiske, kjemiske og optiske egenskaper, som gjør det motstandsdyktig mot høy temperatur, termisk sjokk, vann- og sanderosjon og riper.

Send e-post til oss

Produkt detalj

Produktetiketter

Spesifikasjon av ulike orienteringer

Orientering	C(0001)-akse		R(1-102)-akse		M(10-10) -Akse	A(11-20)-akse
Fysisk eiendom	C-aksen har krystalllys, og de andre aksene har negativt lys.Plan C er flatt, helst kuttet.		R-planet er litt hardere enn A.		M-planet er trinnformet taggete, ikke lett å kutte, lett å kutte.	Hardheten til A-planet er betydelig høyere enn for C-planet, noe som viser seg i slitestyrke, ripebestandighet og høy hardhet;Side A-plan er et sikksakk-plan, som er lett å kutte;
applikasjoner	C-orienterte safirsubstrater brukes til å dyrke III-V og II-VI avsatte filmer, for eksempel galliumnitrid, som kan produsere blå LED-produkter, laserdioder og infrarøde detektorapplikasjoner. Dette er hovedsakelig fordi prosessen med safirkrystallvekst langs C-aksen er moden, kostnadene er relativt lave, de fysiske og kjemiske egenskapene er stabile, og epitaksteknologien på C-planet er moden og stabil.		R-orientert substratvekst av forskjellige avsatt silisium-ekstrasystals, brukt i integrerte mikroelektronikkkretser. I tillegg kan høyhastighets integrerte kretser og trykksensorer også dannes i prosessen med filmproduksjon av epitaksial silisiumvekst.R-type substrat kan også brukes i produksjon av bly, andre superledende komponenter, høymotstandsmotstander, galliumarsenid.		Den brukes hovedsakelig til å dyrke ikke-polare/semi-polare GaN epitaksiale filmer for å forbedre lyseffektiviteten.	A-orientert til underlaget gir en jevn permittivitet/medium, og høy isolasjonsgrad brukes i hybrid mikroelektronikkteknologi.Høytemperatursuperledere kan produseres fra A-base langstrakte krystaller.
Behandlingskapasitet	Pattern Sapphire Substrate (PSS): I form av vekst eller etsing, er nanoskalaspesifikke vanlige mikrostrukturmønstre designet og laget på safirsubstratet for å kontrollere lysutgangsformen til LED, og redusere differensialdefektene blant GaN som vokser på safirsubstratet , forbedre epitaksikvaliteten og forbedre den interne kvanteeffektiviteten til LED-en og øke effektiviteten til lysutvinning. I tillegg kan safirprisme, speil, linse, hull, kjegle og andre strukturelle deler tilpasses i henhold til kundens krav.
Eiendomserklæring	Tetthet	Hardhet	smeltepunkt	Brytningsindeks (synlig og infrarød)	Transmittans (DSP)	Dielektrisk konstant
Eiendomserklæring	3,98 g/cm3	9 (mohs)	2053℃	1,762~1,770	≥85 %	11,58@300K ved C-aksen(9,4 ved A-aksen)

Detaljert diagram

avcasvb (1)

avcasvb (2)

avcasvb (3)

Tidligere: 8 tommers litium niobate wafer LiNbO3 LN wafer

Neste: 2 tommer 50,8 mm tykkelse 0,1 mm 0,2 mm 0,43 mm Sapphire Wafer C-Plane M-plane R-plane A-plane

Skriv din melding her og send den til oss

Produktkategorier