Silisiumkarbid (SiC) keramisk plate

Kort beskrivelse:

Silisiumkarbid (SiC) keramiske plater er avanserte keramiske komponenter med høy styrke og høy renhet, konstruert for miljøer som krever eksepsjonell termisk stabilitet, mekanisk robusthet og kjemisk motstand. Med utmerket hardhet, lav tetthet og overlegen varmeledningsevne er SiC-plater mye brukt i halvlederprosessering, høytemperaturovner, presisjonsmaskiner og korrosive industrimiljøer.

Send e-post til oss

Funksjoner

Detaljert diagram

Produktoversikt

Disse platene opprettholder strukturell integritet under ekstreme forhold, noe som gjør dem til en ideell materialløsning for neste generasjons høyytelsesutstyr.

Viktige funksjoner og egenskaper

Høy hardhet og slitestyrke– Kan sammenlignes med diamant, noe som sikrer lang levetid.
Lav termisk ekspansjon– Minimerer deformasjon under rask oppvarming eller avkjøling.
Høy varmeledningsevne– Effektiv varmeavledning for termiske kontrollsystemer.
Enestående kjemisk stabilitet– Bestandig mot syrer, alkalier og plasmamiljøer.
Lett, men likevel ekstremt sterk– Høyt styrke-til-vekt-forhold sammenlignet med metaller.
Utmerket ytelse ved høy temperatur– Arbeidstemperaturer opptil 1600 °C (avhengig av klasse).
Sterk mekanisk stivhet– Ideell for presis støtte og strukturell stabilitet.

Produksjonsmetode

SiC keramiske plater produseres vanligvis gjennom en av følgende prosesser:

• Reaksjonsbundet silisiumkarbid (RBSC / RBSiC)

Dannet ved å infiltrere smeltet silisium i en porøs SiC-preform
Har høy styrke, god maskinbearbeidbarhet og dimensjonsstabilitet
Egnet for store plater som krever streng planhetskontroll

• Sintret silisiumkarbid (SSiC)

Produsert gjennom trykkløs sintring av SiC-pulver med høy renhet
Gir overlegen renhet, styrke og korrosjonsbestandighet
Ideell for halvleder- og kjemiske applikasjoner som krever ultrarene forhold

• CVD silisiumkarbid (CVD-SiC)

Kjemisk dampavsetningsprosess
Høyeste renhet, ekstremt tett og ultraglatt overflate
Vanlig i halvlederwaferbærere, susceptorer og vakuumkammerdeler

Bruksområder

SiC keramiske plater er mye brukt i en rekke bransjer:

Halvleder og elektronikk

Waferbærerplater
Motstandere
Komponenter til diffusjonsovn
Deler til etse- og avsetningskammer

Komponenter for høytemperaturovn

Støtteplater
Møbler til ovn
Isolasjon og beskyttelse av varmesystemet

Industrielt utstyr

Mekaniske sliteplater
Glideputer
Pumpe- og ventilkomponenter
Kjemisk korrosjonsbestandige plater

Luftfart og forsvar

Lette, høyfaste konstruksjonsplater
Høytemperaturskjermende komponenter

Spesifikasjoner og tilpasning

SiC keramiske plater kan produseres i henhold til tilpassede tegninger:

• Dimensjoner:
Tykkelse: 0,5–30 mm
Maks sidelengde: opptil 600 mm (varierer etter prosess)

• Toleranse:
±0,01–0,05 mm avhengig av maskineringsgrad

• Overflatebehandling:

Slipt / overlappet
Polert (Ra < 5 nm for CVD-SiC)
Som-sintret overflate

• Materialkvaliteter:
RBSiC / SSiC / CVD-SiC

• Formalternativer:
Flate plater, firkantede plater, runde plater, slissede plater, perforerte plater, etc.

Vanlige spørsmål om kvartsbriller

Q1: Hva er forskjellen mellom RBSiC- og SSiC-plater?

A:RBSiC tilbyr god mekanisk styrke og kostnadsytelse, mens SSiC har høyere renhet, bedre korrosjonsbestandighet og høyere styrke. SSiC er foretrukket for halvleder- og kjemiske applikasjoner.

Q2: Kan SiC keramiske plater tåle termisk sjokk?

A:Ja. SiC har lav termisk ekspansjon og høy termisk ledningsevne, noe som sikrer utmerket termisk sjokkmotstand.

Q3: Kan platene poleres for speiloverflateapplikasjoner?

A:Ja. CVD-SiC og høyrens SSiC kan oppnå speilpolering for optiske eller halvlederbehov.

Q4: Støtter dere tilpasset maskinering?

A:Ja. Plater kan produseres i henhold til tegningene dine, inkludert hull, spor, fordypninger og spesialformer.

Om oss

XKH spesialiserer seg på høyteknologisk utvikling, produksjon og salg av spesialoptisk glass og nye krystallmaterialer. Produktene våre brukes til optisk elektronikk, forbrukerelektronikk og militæret. Vi tilbyr optiske safirkomponenter, mobiltelefonlinsedeksler, keramikk, LT, silisiumkarbid SIC, kvarts og halvlederkrystallwafere. Med dyktig ekspertise og banebrytende utstyr utmerker vi oss innen ikke-standard produktbehandling, med mål om å være en ledende høyteknologisk bedrift innen optoelektroniske materialer.