Silisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd

Kort beskrivelse:

DeSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånder en høypresisjonskomponent med høy styrke, konstruert for bruk i krevende miljøer som halvlederproduksjon, luftfartssystemer og avansert robotikk. Med sin doble rolle – som engaffelformet støttestrukturog som enrobothåndlignende endeeffektor– denne komponenten tilbyr enestående allsidighet i håndtering, støtte eller overføring av skjøre eller verdifulle deler.

SiC-gaffelarmen/hånden er produsert med avanserte keramiske prosesseringsteknikker, og gir en unik kombinasjon avmekanisk stivhet, termisk stabilitet, ogkjemisk motstand, noe som gjør den til en ideell erstatning for konvensjonelle metall- eller polymerarmer i systemer som krever langvarig ytelse under belastning og ekstreme forhold.

Send e-post til oss

Funksjoner

Detaljert diagram

Introduksjon av silisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd

DeSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånder en avansert håndteringskomponent utviklet for høypresisjonsautomatiseringssystemer, spesielt innen halvleder- og optisk industri. Denne komponenten har en særegen U-formet design som er optimalisert for waferhåndtering, noe som sikrer både mekanisk styrke og dimensjonsnøyaktighet under ekstreme miljøforhold. Laget av høyrent silisiumkarbidkeramikk,gaffelarm/håndgir eksepsjonell stivhet, termisk stabilitet og kjemisk motstand.

Etter hvert som halvlederkomponenter utvikler seg mot finere geometrier og strammere toleranser, blir behovet for forurensningsfrie og termisk stabile komponenter kritisk.Silisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndmøter denne utfordringen ved å tilby lav partikkelgenerering, ultraglatte overflater og robust strukturell integritet. Enten det gjelder wafertransport, substratposisjonering eller robotverktøyhoder, er denne komponenten konstruert for pålitelighet og lang levetid.

Viktige grunner til å velge detteSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndinkludere:

Minimal termisk ekspansjon for dimensjonal presisjon
Høy hardhet for lang levetid
Motstand mot syrer, alkalier og reaktive gasser
Kompatibilitet med renromsmiljøer i henhold til ISO klasse 1

Produksjonsprinsipp for silisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd

DeSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndproduseres gjennom en svært kontrollert keramisk prosesseringsarbeidsflyt som er utformet for å sikre overlegne materialegenskaper og dimensjonal konsistens.

1. Pulverforberedelse

Prosessen begynner med utvelgelsen av ultrafine silisiumkarbidpulver. Disse pulverne blandes med bindemidler og sintringshjelpemidler for å lette komprimering og fortetting. For dette formåletgaffelarm/hånd, β-SiC- eller α-SiC-pulver brukes for å sikre både hardhet og seighet.

2. Forming og preforming

Avhengig av kompleksiteten tilgaffelarm/håndI designen formes delen ved hjelp av isostatisk pressing, sprøytestøping eller glidestøping. Dette muliggjør intrikate geometrier og tynnveggede strukturer, noe som er avgjørende for den lette vekten tilSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd.

3. Høytemperatursintring

Sintring utføres ved temperaturer over 2000 °C i vakuum eller argonatmosfærer. Dette trinnet omdanner det grønne legemet til en fullstendig fortettet keramisk komponent. Den sintredegaffelarm/håndoppnår nær teoretisk tetthet, og gir enestående mekaniske og termiske egenskaper.

4. Presisjonsmaskinering

Etter sintring, denSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndgjennomgår diamantsliping og CNC-maskinering. Dette sikrer en flathet innenfor ±0,01 mm og muliggjør inkludering av monteringshull og lokaliseringsfunksjoner som er kritiske for installasjon i automatiserte systemer.

5. Overflatebehandling

Polering reduserer overflateruhet (Ra < 0,02 μm), noe som er viktig for å redusere partikkelgenerering. Valgfrie CVD-belegg kan påføres for å forbedre plasmamotstanden eller legge til funksjonalitet som antistatisk oppførsel.

Gjennom hele denne prosessen brukes kvalitetskontrollprotokoller for å garantereSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndfungerer pålitelig i de mest følsomme applikasjonene.

Parametre for silisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd

Hovedspesifikasjoner for CVD-SIC-belegg
SiC-CVD-egenskaper
Krystallstruktur	FCC β-fase
Tetthet	g/cm³	3.21
Hardhet	Vickers-hardhet	2500
Kornstørrelse	mikrometer	2~10
Kjemisk renhet	%	99,99995
Varmekapasitet	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimeringstemperatur	℃	2700
Feleksural styrke	MPa (RT 4-punkts)	415
Youngs modulus	GPA (4pt bøyning, 1300℃)	430
Termisk ekspansjon (CTE)	10-6K-1	4,5
Termisk ledningsevne	(W/mK)	300

Anvendelser av silisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd

DeSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndbrukes mye i bransjer der høy renhet, stabilitet og mekanisk presisjon er avgjørende. Disse inkluderer:

1. Halvlederproduksjon

I halvlederfabrikasjon,Silisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndbrukes til å transportere silisiumskiver i prosessverktøy som etsekamre, avsetningssystemer og inspeksjonsutstyr. Dens termiske motstand og dimensjonsnøyaktighet gjør den ideell for å minimere feiljustering og forurensning av skiver.

2. Produksjon av skjermpaneler

I produksjon av OLED- og LCD-skjermer,gaffelarm/håndbrukes i pick-and-place-systemer, der den håndterer skjøre glassunderlag. Den lave massen og høye stivheten muliggjør rask og stabil bevegelse uten vibrasjon eller avbøyning.

3. Optiske og fotoniske systemer

For justering og plassering av linser, speil eller fotoniske brikker,Silisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndtilbyr vibrasjonsfri støtte, noe som er avgjørende for laserprosessering og presisjonsmåling.

4. Luftfart og vakuumsystemer

I optiske systemer for luftfart og vakuuminstrumenter sikrer denne komponentens ikke-magnetiske, korrosjonsbestandige struktur langsiktig stabilitet.gaffelarm/håndkan også operere i ultrahøyt vakuum (UHV) uten avgassing.

På alle disse feltene,Silisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndovergår tradisjonelle metall- eller polymeralternativer når det gjelder pålitelighet, renslighet og levetid.

no_177_d780dae2bf2639e7dd5142ca3d29c41d_image

Vanlige spørsmål om gaffelarm/hånd av silisiumkarbidkeramikk

Q1: Hvilke waferstørrelser støttes av silisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd?

Degaffelarm/håndkan tilpasses for å støtte wafere på 150 mm, 200 mm og 300 mm. Gaffelspenn, armbredde og hullmønstre kan skreddersys for å passe din spesifikke automatiseringsplattform.

Q2: Er gaffelarmen/hånden av silisiumkarbid keramisk kompatibel med vakuumsystemer?

Ja. Dengaffelarm/hånder egnet for både lavvakuum- og ultrahøyvakuumsystemer. Den har lav avgassingshastighet og slipper ikke ut partikler, noe som gjør den ideell for renrom og vakuummiljøer.

Q3: Kan jeg legge til belegg eller overflatemodifikasjoner på gaffelarmen/hånden?

Gjerne. DenSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndkan belegges med CVD-SiC-, karbon- eller oksidlag for å forbedre plasmamotstanden, antistatiske egenskaper eller overflatehardheten.

Q4: Hvordan verifiseres kvaliteten på gaffelarmen/hånden?

HverSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/håndgjennomgår dimensjonsinspeksjon ved hjelp av CMM og lasermålingsverktøy. Overflatekvaliteten evalueres via SEM og kontaktløs profilometri for å oppfylle ISO- og SEMI-standarder.

Q5: Hva er leveringstiden for spesialbestillinger av gaffelarmer/håndgafler?

Leveringstiden varierer vanligvis fra 3 til 5 uker, avhengig av kompleksitet og mengde. Rask prototyping er tilgjengelig for hasteforespørsler.

Disse vanlige spørsmålene har som mål å hjelpe ingeniører og innkjøpsteam med å forstå mulighetene og alternativene som er tilgjengelige når de velger enSilisiumkarbid keramisk gaffelarm/hånd.

Om oss

XKH spesialiserer seg på høyteknologisk utvikling, produksjon og salg av spesialoptisk glass og nye krystallmaterialer. Produktene våre brukes til optisk elektronikk, forbrukerelektronikk og militæret. Vi tilbyr optiske safirkomponenter, mobiltelefonlinsedeksler, keramikk, LT, silisiumkarbid SIC, kvarts og halvlederkrystallwafere. Med dyktig ekspertise og banebrytende utstyr utmerker vi oss innen ikke-standard produktbehandling, med mål om å være en ledende høyteknologisk bedrift innen optoelektroniske materialer.