Ionstrålepoleringsmaskin for safir SiC Si

Kort beskrivelse:

Ionstrålefigurerings- og poleringsmaskinen er basert på prinsippet omionsputteringInne i et høyvakuumkammer genererer en ionekilde plasma, som akselereres til en høyenergisk ionestråle. Denne strålen bombarderer overflaten til den optiske komponenten og fjerner materiale på atomnivå for å oppnå ultrapresis overflatekorrigering og -finish.

Send e-post til oss

Funksjoner

Detaljert diagram

Produktoversikt over ionstrålepoleringsmaskin

Ionstrålefigurerings- og poleringsmaskinen er basert på prinsippet om ionsputtering. Inne i et høyvakuumkammer genererer en ionkilde plasma, som akselereres til en høyenergisk ionstråle. Denne strålen bombarderer overflaten til den optiske komponenten og fjerner materiale på atomnivå for å oppnå ultrapresis overflatekorrigering og -finish.

Som en kontaktfri prosess eliminerer ionstrålepolering mekanisk stress og unngår skader på undergrunnen, noe som gjør den ideell for produksjon av høypresisjonsoptikk som brukes i astronomi, luftfart, halvledere og avanserte forskningsapplikasjoner.

Arbeidsprinsipp for ionstrålepoleringsmaskin

Iongenerering
Inert gass (f.eks. argon) føres inn i vakuumkammeret og ioniseres gjennom en elektrisk utladning for å danne plasma.

Akselerasjon og stråledannelse
Ionene akselereres til flere hundre eller tusen elektronvolt (eV) og formes til en stabil, fokusert stråleflekk.

Materialfjerning
Ionestrålen forstøver fysisk atomer fra overflaten uten å starte kjemiske reaksjoner.

Feilsøking og stiplanlegging
Avvik i overflatefigurer måles med interferometri. Fjerningsfunksjoner brukes til å bestemme oppholdstider og generere optimaliserte verktøybaner.

Lukket sløyfekorreksjon
Iterative sykluser med prosessering og måling fortsetter inntil RMS/PV-presisjonsmålene er oppnådd.

Viktige funksjoner ved ionstrålepoleringsmaskin

Universell overflatekompatibilitet– Behandler flate, sfæriske, asfæriske og friformede overflater

Ultrastabil fjerningshastighet– Muliggjør korreksjon av subnanometerfigurer

Skadefri behandling– Ingen defekter i undergrunnen eller strukturelle endringer

Konsekvent ytelse– Fungerer like bra på materialer med ulik hardhet

Lav/middels frekvenskorreksjon– Eliminerer feil uten å generere artefakter i mellom-/høyfrekvente områder

Lavt vedlikeholdskrav– Lang kontinuerlig drift med minimal nedetid

Hovedtekniske spesifikasjoner for ionstrålepoleringsmaskin

Punkt	Spesifikasjon
Behandlingsmetode	Ionsputtering i et høyvakuummiljø
Behandlingstype	Berøringsfri overflatebehandling og polering
Maks. arbeidsstykkestørrelse	Φ4000 mm
Bevegelsesakser	3-akset / 5-akset
Fjerningsstabilitet	≥95 %
Overflatenøyaktighet	PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (typisk RMS < 1 nm; PV < 15 nm)
Frekvenskorrigeringsevne	Fjerner lav-middels frekvensfeil uten å introdusere middels/høy frekvensfeil
Kontinuerlig drift	3–5 uker uten støvsugervedlikehold
Vedlikeholdskostnader	Lav

Behandlingsmuligheter for ionstrålepoleringsmaskin

Støttede overflatetyper

Enkel: Flat, sfærisk, prisme

Kompleks: Symmetrisk/asymmetrisk asfære, asfære utenfor aksen, sylindrisk

Spesial: Ultratynn optikk, lamelloptikk, halvkuleformet optikk, konform optikk, faseplater, friformede overflater

Støttede materialer

Optisk glass: Kvarts, mikrokrystallinsk, K9, etc.

Infrarøde materialer: Silisium, germanium, etc.

Metaller: Aluminium, rustfritt stål, titanlegering, etc.

Krystaller: YAG, enkeltkrystall silisiumkarbid, etc.

Harde/sprø materialer: Silisiumkarbid, etc.

Overflatekvalitet / presisjon

PV < 10 nm

RMS ≤ 0,5 nm

Behandling av casestudier av ionstrålepoleringsmaskin

Tilfelle 1 – Standard flatt speil

Arbeidsstykke: D630 mm kvarts flat

Resultat: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

Tilfelle 2 – Røntgenreflekterende speil

Arbeidsstykke: 150 × 30 mm silikonflat

Resultat: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Helning 0,13 µrad

Tilfelle 3 – Speil utenfor aksen

Arbeidsstykke: D326 mm off-axis slipt speil

Resultat: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Vanlige spørsmål om kvartsbriller

Vanlige spørsmål – Ionstrålepoleringsmaskin

Q1: Hva er ionstrålepolering?
A1:Ionestrålepolering er en kontaktløs prosess som bruker en fokusert stråle av ioner (som argonioner) for å fjerne materiale fra en arbeidsstykkeoverflate. Ionene akselereres og rettes mot overflaten, noe som forårsaker fjerning av materiale på atomnivå, noe som resulterer i ultraglatte overflater. Denne prosessen eliminerer mekanisk stress og skader på underlaget, noe som gjør den ideell for presisjonsoptiske komponenter.

Q2: Hvilke typer overflater kan ionstrålepoleringsmaskinen bearbeide?
A2:DeIonstrålepoleringsmaskinkan behandle en rekke overflater, inkludert enkle optiske komponenter somflate, kuler og prismer, så vel som komplekse geometrier somasfærer, asfærer utenfor aksen, ogfriformede overflaterDen er spesielt effektiv på materialer som optisk glass, infrarød optikk, metaller og harde/sprø materialer.

Q3: Hvilke materialer kan ionstrålepoleringsmaskinen brukes med?
A3:DeIonstrålepoleringsmaskinkan polere et bredt spekter av materialer, inkludert:

Optisk glassKvarts, mikrokrystallinsk, K9, etc.
Infrarøde materialerSilisium, germanium, etc.
MetallerAluminium, rustfritt stål, titanlegering, etc.
KrystallmaterialerYAG, enkrystall silisiumkarbid, etc.
Andre harde/sprø materialerSilisiumkarbid, etc.

Om oss

XKH spesialiserer seg på høyteknologisk utvikling, produksjon og salg av spesialoptisk glass og nye krystallmaterialer. Produktene våre brukes til optisk elektronikk, forbrukerelektronikk og militæret. Vi tilbyr optiske safirkomponenter, mobiltelefonlinsedeksler, keramikk, LT, silisiumkarbid SIC, kvarts og halvlederkrystallwafere. Med dyktig ekspertise og banebrytende utstyr utmerker vi oss innen ikke-standard produktbehandling, med mål om å være en ledende høyteknologisk bedrift innen optoelektroniske materialer.