AlN på FSS 2 tommer 4 tommer NPSS/FSS AlN mal for halvlederområde
Egenskaper
Materialsammensetning:
Aluminiumnitrid (AlN) – Hvitt, høyytelses keramisk lag som gir utmerket varmeledningsevne (typisk 200-300 W/m·K), god elektrisk isolasjon og høy mekanisk styrke.
Fleksibelt substrat (FSS) – Fleksible polymerfilmer (som polyimid, PET, etc.) som gir holdbarhet og bøybarhet uten at det går på bekostning av funksjonaliteten til AlN-laget.
Tilgjengelige waferstørrelser:
2-tommers (50,8 mm)
4-tommers (100 mm)
Tykkelse:
AlN-lag: 100-2000nm
FSS-substrattykkelse: 50µm-500µm (tilpasses basert på krav)
Alternativer for overflatefinish:
NPSS (Non-Polished Substrate) – Upolert underlagsoverflate, egnet for visse bruksområder som krever grovere overflateprofiler for bedre vedheft eller integrering.
FSS (Flexible Substrate) – Polert eller upolert fleksibel film, med mulighet for glatte eller teksturerte overflater, avhengig av de spesifikke bruksbehovene.
Elektriske egenskaper:
Isolerende – AlNs elektriske isolerende egenskaper gjør den ideell for høyspennings- og krafthalvlederapplikasjoner.
Dielektrisk konstant: ~9,5
Termisk ledningsevne: 200-300 W/m·K (avhengig av spesifikk AlN-kvalitet og tykkelse)
Mekaniske egenskaper:
Fleksibilitet: AlN avsettes på et fleksibelt underlag (FSS) som gir mulighet for bøyning og fleksibilitet.
Overflatehardhet: AlN er svært slitesterk og motstår fysisk skade under normale driftsforhold.
Søknader
Høyeffektsenheter: Ideell for kraftelektronikk som krever høy termisk spredning, for eksempel strømomformere, RF-forsterkere og høyeffekts LED-moduler.
RF- og mikrobølgekomponenter: Egnet for komponenter som antenner, filtre og resonatorer der både termisk ledningsevne og mekanisk fleksibilitet er nødvendig.
Fleksibel elektronikk: Perfekt for applikasjoner der enheter må tilpasse seg ikke-plane overflater eller krever en lett, fleksibel design (f.eks. bærbare enheter, fleksible sensorer).
Halvlederemballasje: Brukes som et substrat i halvlederemballasje, og tilbyr termisk spredning i applikasjoner som genererer høy varme.
LED og optoelektronikk: For enheter som krever høytemperaturdrift med robust varmeavledning.
Parametertabell
Eiendom | Verdi eller område |
Wafer størrelse | 2-tommers (50,8 mm), 4-tommers (100 mm) |
AlN lagtykkelse | 100nm – 2000nm |
FSS substrattykkelse | 50µm – 500µm (tilpasses) |
Termisk ledningsevne | 200 – 300 W/m·K |
Elektriske egenskaper | Isolerende (dielektrisk konstant: ~9,5) |
Overflatefinish | Polert eller upolert |
Substrattype | NPSS (Non-Polished Substrate), FSS (Flexible Substrate) |
Mekanisk fleksibilitet | Høy fleksibilitet, ideell for fleksibel elektronikk |
Farge | Hvit til Off-White (avhengig av underlag) |
Søknader
●Kraftelektronikk:Kombinasjonen av høy termisk ledningsevne og fleksibilitet gjør disse skivene perfekte for kraftenheter som kraftomformere, transistorer og spenningsregulatorer som krever effektiv varmeavledning.
●RF/mikrobølgeenheter:På grunn av AlNs overlegne termiske egenskaper og lave elektriske ledningsevne, brukes disse skivene i RF-komponenter som forsterkere, oscillatorer og antenner.
●Fleksibel elektronikk:Fleksibiliteten til FSS-laget kombinert med den utmerkede termiske styringen til AlN gjør det til et ideelt valg for bærbar elektronikk og sensorer.
● Halvlederemballasje:Brukes til høyytelses halvlederemballasje hvor effektiv termisk spredning og pålitelighet er kritisk.
●LED og optoelektroniske applikasjoner:Aluminiumnitrid er et utmerket materiale for LED-emballasje og andre optoelektroniske enheter som krever høy varmebestandighet.
Spørsmål og svar (ofte stilte spørsmål)
Q1: Hva er fordelene med å bruke AlN på FSS wafere?
A1: AlN på FSS-skiver kombinerer den høye termiske ledningsevnen og elektriske isolasjonsegenskapene til AlN med den mekaniske fleksibiliteten til et polymersubstrat. Dette muliggjør forbedret varmespredning i fleksible elektroniske systemer samtidig som enhetens integritet opprettholdes under bøye- og strekkforhold.
Q2: Hvilke størrelser er tilgjengelige for AlN på FSS wafere?
A2: Vi tilbyr2-tommersog4-tommerswafer størrelser. Egendefinerte størrelser kan diskuteres på forespørsel for å møte dine spesifikke applikasjonsbehov.
Q3: Kan jeg tilpasse tykkelsen på AlN-laget?
A3: Ja, denAlN lagtykkelsekan tilpasses, med typiske områder fra100nm til 2000nmavhengig av søknadskravene dine.
Detaljert diagram



