AlN på FSS 2-tommers 4-tommers NPSS/FSS AlN-mal for halvlederområde
Eiendommer
Materialsammensetning:
Aluminiumnitrid (AlN) – Hvitt, høytytende keramisk lag som gir utmerket varmeledningsevne (vanligvis 200–300 W/m·K), god elektrisk isolasjon og høy mekanisk styrke.
Fleksibelt substrat (FSS) – Fleksible polymerfilmer (som polyimid, PET osv.) som gir holdbarhet og bøybarhet uten at det går på bekostning av funksjonaliteten til AlN-laget.
Tilgjengelige waferstørrelser:
2-tommers (50,8 mm)
4 tommer (100 mm)
Tykkelse:
AlN-lag: 100–2000 nm
FSS-substrattykkelse: 50 µm–500 µm (kan tilpasses etter behov)
Alternativer for overflatebehandling:
NPSS (ikke-polert substrat) – Upolert substratoverflate, egnet for visse bruksområder som krever ruere overflateprofiler for bedre vedheft eller integrering.
FSS (fleksibelt substrat) – Polert eller upolert fleksibel film, med mulighet for glatte eller teksturerte overflater, avhengig av den spesifikke bruksbehovene.
Elektriske egenskaper:
Isolasjon – AlNs elektrisk isolerende egenskaper gjør det ideelt for høyspennings- og krafthalvlederapplikasjoner.
Dielektrisk konstant: ~9,5
Varmeledningsevne: 200–300 W/m·K (avhengig av spesifikk AlN-kvalitet og tykkelse)
Mekaniske egenskaper:
Fleksibilitet: AlN avsettes på et fleksibelt substrat (FSS) som tillater bøying og fleksibilitet.
Overflatehardhet: AlN er svært slitesterkt og motstår fysisk skade under normale driftsforhold.
Bruksområder
HøyeffektsenheterIdeell for kraftelektronikk som krever høy varmeavledning, for eksempel effektomformere, RF-forsterkere og høyeffekts LED-moduler.
RF- og mikrobølgekomponenterEgnet for komponenter som antenner, filtre og resonatorer der både varmeledningsevne og mekanisk fleksibilitet er nødvendig.
Fleksibel elektronikkPerfekt for applikasjoner der enheter må tilpasse seg ikke-plane overflater eller krever en lett og fleksibel design (f.eks. bærbare enheter, fleksible sensorer).
HalvlederpakkingBrukes som substrat i halvlederpakking, og gir varmespredning i applikasjoner som genererer høy varme.
LED-er og optoelektronikkFor enheter som krever drift ved høy temperatur med robust varmeavledning.
Parametertabell
Eiendom | Verdi eller område |
Waferstørrelse | 2-tommers (50,8 mm), 4-tommers (100 mm) |
AlN-lagtykkelse | 100 nm – 2000 nm |
FSS-substrattykkelse | 50µm – 500µm (tilpassbar) |
Termisk konduktivitet | 200–300 W/m²K |
Elektriske egenskaper | Isolerende (dielektrisk konstant: ~9,5) |
Overflatebehandling | Polert eller upolert |
Substrattype | NPSS (ikke-polert substrat), FSS (fleksibelt substrat) |
Mekanisk fleksibilitet | Høy fleksibilitet, ideell for fleksibel elektronikk |
Farge | Hvit til off-white (avhengig av underlag) |
Bruksområder
● Kraftelektronikk:Kombinasjonen av høy varmeledningsevne og fleksibilitet gjør disse waferne perfekte for kraftenheter som kraftomformere, transistorer og spenningsregulatorer som krever effektiv varmeavledning.
●RF-/mikrobølgeovnsenheter:På grunn av AlNs overlegne termiske egenskaper og lave elektriske ledningsevne, brukes disse waferne i RF-komponenter som forsterkere, oscillatorer og antenner.
● Fleksibel elektronikk:Fleksibiliteten til FSS-laget kombinert med den utmerkede varmestyringen til AlN gjør det til et ideelt valg for bærbar elektronikk og sensorer.
● Halvlederemballasje:Brukes til høyytelses halvlederpakking der effektiv termisk spredning og pålitelighet er avgjørende.
●LED- og optoelektroniske applikasjoner:Aluminiumnitrid er et utmerket materiale for LED-pakking og andre optoelektroniske enheter som krever høy varmebestandighet.
Spørsmål og svar (ofte stilte spørsmål)
Q1: Hva er fordelene med å bruke AlN på FSS-wafere?
A1AlN på FSS-wafere kombinerer den høye varmeledningsevnen og elektriske isolasjonsegenskapene til AlN med den mekaniske fleksibiliteten til et polymersubstrat. Dette muliggjør forbedret varmespredning i fleksible elektroniske systemer samtidig som enhetens integritet opprettholdes under bøying og strekkforhold.
Q2: Hvilke størrelser er tilgjengelige for AlN på FSS-wafere?
A2Vi tilbyr2-tommersog4-tommerswaferstørrelser. Tilpassede størrelser kan diskuteres på forespørsel for å møte dine spesifikke applikasjonsbehov.
Q3: Kan jeg tilpasse tykkelsen på AlN-laget?
A3Ja, denAlN-lagets tykkelsekan tilpasses, med typiske områder fra100 nm til 2000 nmavhengig av applikasjonskravene dine.
Detaljert diagram



