AlN på FSS 2-tommers 4-tommers NPSS/FSS AlN-mal for halvlederområde

Kort beskrivelse:

AlN på FSS (Flexible Substrate)-wafere tilbyr en unik kombinasjon av den eksepsjonelle varmeledningsevnen, mekaniske styrken og de elektriske isolasjonsegenskapene til aluminiumnitrid (AlN), kombinert med fleksibiliteten til et høyytelsessubstrat. Disse 2-tommers og 4-tommers wafere er spesielt utviklet for avanserte halvlederapplikasjoner, spesielt der termisk styring og enhetsfleksibilitet er kritisk. Med muligheten for NPSS (Non-Polished Substrate) og FSS (Flexible Substrate) som base, er disse AlN-malene ideelle for applikasjoner innen kraftelektronikk, RF-enheter og fleksible elektroniske systemer, der høy varmeledningsevne og fleksibel integrasjon er nøkkelen til å forbedre enhetens ytelse og pålitelighet.


Funksjoner

Eiendommer

Materialsammensetning:
Aluminiumnitrid (AlN) – Hvitt, høytytende keramisk lag som gir utmerket varmeledningsevne (vanligvis 200–300 W/m·K), god elektrisk isolasjon og høy mekanisk styrke.
Fleksibelt substrat (FSS) – Fleksible polymerfilmer (som polyimid, PET osv.) som gir holdbarhet og bøybarhet uten at det går på bekostning av funksjonaliteten til AlN-laget.

Tilgjengelige waferstørrelser:
2-tommers (50,8 mm)
4 tommer (100 mm)

Tykkelse:
AlN-lag: 100–2000 nm
FSS-substrattykkelse: 50 µm–500 µm (kan tilpasses etter behov)

Alternativer for overflatebehandling:
NPSS (ikke-polert substrat) – Upolert substratoverflate, egnet for visse bruksområder som krever ruere overflateprofiler for bedre vedheft eller integrering.
FSS (fleksibelt substrat) – Polert eller upolert fleksibel film, med mulighet for glatte eller teksturerte overflater, avhengig av den spesifikke bruksbehovene.

Elektriske egenskaper:
Isolasjon – AlNs elektrisk isolerende egenskaper gjør det ideelt for høyspennings- og krafthalvlederapplikasjoner.
Dielektrisk konstant: ~9,5
Varmeledningsevne: 200–300 W/m·K (avhengig av spesifikk AlN-kvalitet og tykkelse)

Mekaniske egenskaper:
Fleksibilitet: AlN avsettes på et fleksibelt substrat (FSS) som tillater bøying og fleksibilitet.
Overflatehardhet: AlN er svært slitesterkt og motstår fysisk skade under normale driftsforhold.

Bruksområder

HøyeffektsenheterIdeell for kraftelektronikk som krever høy varmeavledning, for eksempel effektomformere, RF-forsterkere og høyeffekts LED-moduler.

RF- og mikrobølgekomponenterEgnet for komponenter som antenner, filtre og resonatorer der både varmeledningsevne og mekanisk fleksibilitet er nødvendig.

Fleksibel elektronikkPerfekt for applikasjoner der enheter må tilpasse seg ikke-plane overflater eller krever en lett og fleksibel design (f.eks. bærbare enheter, fleksible sensorer).

HalvlederpakkingBrukes som substrat i halvlederpakking, og gir varmespredning i applikasjoner som genererer høy varme.

LED-er og optoelektronikkFor enheter som krever drift ved høy temperatur med robust varmeavledning.

Parametertabell

Eiendom

Verdi eller område

Waferstørrelse 2-tommers (50,8 mm), 4-tommers (100 mm)
AlN-lagtykkelse 100 nm – 2000 nm
FSS-substrattykkelse 50µm – 500µm (tilpassbar)
Termisk konduktivitet 200–300 W/m²K
Elektriske egenskaper Isolerende (dielektrisk konstant: ~9,5)
Overflatebehandling Polert eller upolert
Substrattype NPSS (ikke-polert substrat), FSS (fleksibelt substrat)
Mekanisk fleksibilitet Høy fleksibilitet, ideell for fleksibel elektronikk
Farge Hvit til off-white (avhengig av underlag)

Bruksområder

● Kraftelektronikk:Kombinasjonen av høy varmeledningsevne og fleksibilitet gjør disse waferne perfekte for kraftenheter som kraftomformere, transistorer og spenningsregulatorer som krever effektiv varmeavledning.
●RF-/mikrobølgeovnsenheter:På grunn av AlNs overlegne termiske egenskaper og lave elektriske ledningsevne, brukes disse waferne i RF-komponenter som forsterkere, oscillatorer og antenner.
● Fleksibel elektronikk:Fleksibiliteten til FSS-laget kombinert med den utmerkede varmestyringen til AlN gjør det til et ideelt valg for bærbar elektronikk og sensorer.
● Halvlederemballasje:Brukes til høyytelses halvlederpakking der effektiv termisk spredning og pålitelighet er avgjørende.
●LED- og optoelektroniske applikasjoner:Aluminiumnitrid er et utmerket materiale for LED-pakking og andre optoelektroniske enheter som krever høy varmebestandighet.

Spørsmål og svar (ofte stilte spørsmål)

Q1: Hva er fordelene med å bruke AlN på FSS-wafere?

A1AlN på FSS-wafere kombinerer den høye varmeledningsevnen og elektriske isolasjonsegenskapene til AlN med den mekaniske fleksibiliteten til et polymersubstrat. Dette muliggjør forbedret varmespredning i fleksible elektroniske systemer samtidig som enhetens integritet opprettholdes under bøying og strekkforhold.

Q2: Hvilke størrelser er tilgjengelige for AlN på FSS-wafere?

A2Vi tilbyr2-tommersog4-tommerswaferstørrelser. Tilpassede størrelser kan diskuteres på forespørsel for å møte dine spesifikke applikasjonsbehov.

Q3: Kan jeg tilpasse tykkelsen på AlN-laget?

A3Ja, denAlN-lagets tykkelsekan tilpasses, med typiske områder fra100 nm til 2000 nmavhengig av applikasjonskravene dine.

Detaljert diagram

AlN på FSS01
AlN på FSS02
AlN på FSS03
AlN på FSS06 - 副本

  • Tidligere:
  • Neste:

  • Skriv meldingen din her og send den til oss