8-tommers silisiumplate P/N-type (100) 1-100Ω dummy gjenvinningssubstrat

Kort beskrivelse:

Stort lager av dobbeltsidige polerte wafere, alle wafere fra 50 til 400 mm i diameter Hvis spesifikasjonen din ikke er tilgjengelig i vårt lager, har vi etablert langsiktige relasjoner med mange leverandører som er i stand til å skreddersyde wafere for å passe til enhver unik spesifikasjon. Tosidige polerte wafere kan brukes til silisium, glass og andre materialer som vanligvis brukes i halvlederindustrien.

Send e-post til oss

Produktdetaljer

Produktetiketter

Introduser oblatboks

Den 8-tommers silisiumplaten er et ofte brukt silisiumsubstratmateriale og er mye brukt i produksjonsprosessen av integrerte kretser. Slike silisiumskiver brukes ofte til å lage ulike typer integrerte kretser, inkludert mikroprosessorer, minnebrikker, sensorer og andre elektroniske enheter. 8-tommers silisiumskiver brukes ofte til å lage brikker av relativt store størrelser, med fordeler inkludert et større overflateareal og muligheten til å lage flere brikker på en enkelt silisiumplate, noe som fører til økt produksjonseffektivitet. Den 8-tommers silisiumplaten har også gode mekaniske og kjemiske egenskaper, som egner seg for storskala integrert kretsproduksjon.

Produktfunksjoner

8" P/N-type, polert silisiumplate (25 stk)

Orientering: 200

Resistivitet: 0,1 - 40 ohm•cm (det kan variere fra batch til batch)

Tykkelse: 725+/-20um

Prime/Monitor/Testkarakter

MATERIALEGENSKAPER

Parameter	Karakteristisk
Type/Doant	P, Bor N, Fosfor N, Antimon N, Arsen
Orienteringer	<100>, <111> skjærer av orienteringer i henhold til kundens spesifikasjoner
Oksygeninnhold	10¹⁹ppmA Egendefinerte toleranser per kundes spesifikasjon
Karboninnhold	< 0,6 ppmA

MEKANISKE EGENSKAPER

Parameter	Prime	Monitor/test A	Test
Diameter	200±0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Tykkelse	725±20 µm (standard)	725±25 µm (standard) 450±25 µm 625±25 µm 1000±25 µm 1300±25 µm 1500±25 µm	725±50 µm (standard)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Bue	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Pakk inn	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Kantavrunding	SEMI-STD
Merking	Kun primær SEMI-Flat, SEMI-STD Flats Jeida Flat, Notch

Parameter	Prime	Monitor/test A	Test
Forsidekriterier
Overflatetilstand	Kjemisk mekanisk polert	Kjemisk mekanisk polert	Kjemisk mekanisk polert
Overflatens ruhet	< 2 A°	< 2 A°	< 2 A°
Forurensning Partikler @ >0,3 µm	= 20	= 20	= 30
Dis, groper Appelsinskall	Ingen	Ingen	Ingen
Så, Marks Striasjoner	Ingen	Ingen	Ingen
Baksidekriterier
Sprekker, kråkeføtter, sagmerker, flekker	Ingen	Ingen	Ingen
Overflatetilstand	Etsende etset